日媒報告驚爆：中芯 7nm 良率僅 30%？

2025 年 5 月 18 日，日本瑞穗證券一份看漲英偉達的報告意外引發(fā)軒然大波。報告稱，華為昇騰 910 系列 AI 芯片主要代工廠中芯國際的 7 納米制程良率僅約30%，意味著每生產 100 片芯片僅 30 片合格。盡管該數(shù)據(jù)尚未經官方證實，卻瞬間點燃市場對國產先進制程技術瓶頸的討論。

昇騰 910 的對標爭議與代工困境

此前，華為昇騰 910C 因宣稱 “性能匹敵英偉達 H100” 引發(fā)行業(yè)震動，甚至一度影響英偉達股價。然而，其代工之路充滿荊棘：受美國出口管制，華為需依賴中芯國際 7nm 制程生產昇騰芯片，而此前委托臺積電代工的路徑已因第三方企業(yè) “算能科技” 被拉黑而阻斷。技術封鎖與代工限制，成為國產 AI 芯片量產的雙重枷鎖。

良率低迷的蝴蝶效應

芯片良率直接關乎成本與產能。若 30% 良率屬實，中芯國際每片晶圓的有效產出將大幅縮水，導致昇騰芯片實際產能可能不及預期的 1/3。這不僅影響華為 AI 服務器、自動駕駛等業(yè)務的推進速度，還可能加劇國內 AI 算力供需失衡，間接推高本土企業(yè)對英偉達芯片的依賴度。

國產制程的突圍之痛

中芯國際作為國產晶圓代工龍頭，其 7nm 良率問題折射出中國半導體產業(yè)在先進制程領域的共性挑戰(zhàn)：設備受限（如 EUV 光刻機禁運）、材料瓶頸、工藝積累不足等。盡管中芯國際通過 N+1、N+2 工藝實現(xiàn)部分技術突破，但與臺積電、三星的成熟制程相比，量產穩(wěn)定性仍有差距。

行業(yè)呼吁理性看待：技術突破需時間沉淀

半導體行業(yè)資深人士指出，先進制程良率提升是長期工程，初期階段良率波動屬正常現(xiàn)象。中芯國際在成熟制程（如 14nm、28nm）已實現(xiàn)超 95% 良率，7nm 工藝從研發(fā)到穩(wěn)定量產需 3-5 年周期。當前更需關注國產設備材料替代進度及生態(tài)協(xié)同，而非單一數(shù)據(jù)解讀。

** 億配芯城（ICgoodFind）** 始終關注國產半導體技術進展。中芯國際的良率爭議既是挑戰(zhàn)，也是國產產業(yè)鏈自主化的催化劑。我們相信，隨著設備材料端突破與工藝經驗積累，國產先進制程終將跨越 “良率門檻”。億配芯城將持續(xù)為行業(yè)提供多元化芯片解決方案，助力國產算力生態(tài)韌性成長。