2 月 26 日消息，英特爾公司當(dāng)?shù)貢r(shí)間周一宣布，其工廠已啟用 ASML 公司首批兩臺(tái)先進(jìn)光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。這一消息瞬間點(diǎn)燃行業(yè)熱情，讓英特爾再次成為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域關(guān)注的焦點(diǎn)。
在加利福尼亞州圣何塞的會(huì)議上，英特爾高級(jí)首席工程師史蒂夫?卡森（Steve Carson）披露了驚艷數(shù)據(jù)：憑借 ASML 的高數(shù)值孔徑（NA）
光刻機(jī)，英特爾單季度成功產(chǎn)出 30,000 片晶圓。這些晶圓是芯片制造的關(guān)鍵基礎(chǔ)，每片能制造出數(shù)千顆芯片。尤為突出的是，
新型光刻機(jī)的可靠性約為舊款機(jī)型的兩倍?？ㄉ瓘?qiáng)調(diào)：“穩(wěn)定的晶圓生產(chǎn)速率，為整個(gè)平臺(tái)賦予了無(wú)可比擬的優(yōu)勢(shì) 。”
回顧往昔，英特爾在上一代極紫外（EUV）光刻機(jī)的應(yīng)用上落后于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。耗費(fèi)七年時(shí)間才將舊款光刻機(jī)全面投入生產(chǎn)，期間的可靠性問(wèn)題更是使其痛失對(duì)臺(tái)積電的領(lǐng)先地位。但如今，新型光刻機(jī)的投產(chǎn)成為英特爾扭轉(zhuǎn)局勢(shì)的關(guān)鍵契機(jī) 。
新型 ASML 光刻機(jī)通過(guò)獨(dú)特的光束在芯片上打印特征，展現(xiàn)出強(qiáng)大的技術(shù)革新能力。它能以更少的曝光次數(shù)完成與舊款機(jī)器相同的工作，大幅節(jié)省時(shí)間和成本。英特爾工廠的早期數(shù)據(jù)顯示，高 NA 光刻機(jī)僅需一次曝光和 “個(gè)位數(shù)” 的處理步驟，就能完成舊款機(jī)器需要三次曝光和約 40 個(gè)處理步驟的任務(wù)。這一技術(shù)突破，無(wú)疑極大地提升了英特爾在芯片制造領(lǐng)域的競(jìng)爭(zhēng)力。
英特爾計(jì)劃借助高 NA 光刻機(jī)大力推動(dòng)其 18A 制造技術(shù)的研發(fā)，該技術(shù)預(yù)計(jì)今年晚些時(shí)候?qū)⑴c新一代 PC 芯片一同大規(guī)模生產(chǎn)。英特爾還打算在下一代制造技術(shù) 14A 中全面應(yīng)用高 NA 光刻機(jī)，雖然 14A 技術(shù)大規(guī)模生產(chǎn)的日期尚未公布，但已讓行業(yè)對(duì)英特爾的未來(lái)充滿(mǎn)遐想。
億配芯城（ICgoodFind）認(rèn)為，英特爾引入 ASML 高 NA EUV 光刻機(jī)，是其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的關(guān)鍵戰(zhàn)略布局。這不僅有望重塑英特爾在行業(yè)中的競(jìng)爭(zhēng)地位，也將推動(dòng)整個(gè)芯片制造技術(shù)的發(fā)展與革新。億配芯城（ICgoodFind）將持續(xù)關(guān)注英特爾及行業(yè)動(dòng)態(tài)，憑借自身在電子元器件領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)優(yōu)勢(shì)，為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)，助力行業(yè)在技術(shù)浪潮中不斷前行。
